Размер и доля рынка литографического метрологического оборудования - 2034

Размер рынка литографического метрологического оборудования

Мировой рынок литографического метрологического оборудования был оценен в 755 миллионов долларов США в 2024 году и, по оценкам, вырастет на 7,4% с 2025 по 2034 год.

Развитие полупроводниковых технологий является ключевым фактором роста литографического метрологического оборудования, поскольку производители переходят к более эффективным и меньшим узлам, таким как 5 или 7 нанометров. Развитие передовых технологий, включая экстремальную ультрафиолетовую (EUV) литографию, стало критически важным для производства высокопроизводительных чипов с повышенной плотностью транзисторов. Эти инновации требуют точных метрологических систем, чтобы обеспечить точность моделирования, минимизировать дефекты и оптимизировать урожайность.

По мере увеличения сложности полупроводниковых процессов растет спрос на передовое литографическое метрологическое оборудование для поддержки строгих производственных стандартов и удовлетворения меняющихся потребностей полупроводниковых фабрик. Например, Hitachi High-Tech разработала GT2000 до 8600, тонкое электронно-лучевое метрологическое оборудование для сложных полупроводниковых устройств, метрологическая система GT-2000 была разработана до уровня, необходимого рынку. Этот GT2000 очень востребован сейчас, и поскольку все больше компаний в полупроводниковой промышленности нуждаются в ИТ, метрологические системы Heidenhain и Tevel способствуют росту рынка.

Растущий спрос на потребительскую электронику способствовал дальнейшему росту рынка литографического метрологического оборудования. Растущая тенденция к миниатюризации и более высокой эффективности для предоставления функций следующего поколения побуждает производителей модернизировать свои литографические системы для увеличения плотности и производительности компактных интегральных схем. Метрологическое оборудование играет жизненно важную роль в обеспечении точности и контроля качества во время фотолитографии.

Литографическая метрология Тенденции рынка оборудования

Рынок литографических измерений меняется, поскольку основные потребители B2B, такие как производители полупроводников или исследовательские учреждения, внедряют новые передовые системы измерения для измерения высокой точности в производстве полупроводников. Новейшие инновации в таких материалах, как ультрафиолетовые фотомаски и измерительные технологии, такие как атомно-силовые микроскопы и оптические критические размеры, способствуют промышленному прогрессу. Кроме того, отрасль фокусируется на вопросах устойчивости, таких как сокращение потребления энергии, повышение эффективности оборудования и снижение общего воздействия зеленых концепций и материалов на окружающую среду.

Анализ рынка литографического метрологического оборудования

Рынок литографического метрологического оборудования имеет определенные ограничения, такие как высокая стоимость передовых измерительных систем, внедрение новых технологий на существующих производственных линиях и повторное принятие правил с точки зрения экологического управления и обработки опасных отходов. С другой стороны, внедрение миниатюрных полупроводниковых устройств, технологии 5G и ИИ и машинного обучения предлагает уникальные возможности. Кроме того, регулирующие органы все чаще поддерживают инновационные решения в области устойчивого развития, а также очевидную потребность в новых технологиях, обеспечивающих эффективное и точное производство компонентов.

Основываясь на технологии, рынок разделен на оптическую метрологию, критическое измерение сканирующей электронной микроскопии (CD-SEM), накладную метрологию, атомно-силовую микроскопию (AFM) и рассеяние. Ожидается, что к 2034 году сегмент сканирующей электронной микроскопии с критическим измерением (CD-SEM) достигнет стоимости 451,1 миллиона долларов США.

• Оптическая метрология имеет наибольшую долю на рынке литографического метрологического оборудования из-за быстрого и бесконтактного измерения, которое выгодно для массового производства полупроводников. Такие параметры, как ширина линии и точность наложения, активно измеряются с использованием оптических методов, таких как рефлектометрия и интерферометрия. Всплеск использования литографии EUV в качестве передовой технологии производства увеличил потребность в использовании оптической метрологии, поскольку она является полезным инструментом для предоставления решений в режиме реального времени на критических этапах, когда высокая точность необходима во время процессов изготовления.
• CD-SEM имеет решающее значение в производстве полупроводников благодаря точным наноразмерным измерениям. Это оборудование широко используется при проверке наноразмерных структур, моделей литографии и масок. Продолжение модернизации в полупроводниковой промышленности приводит к увеличению спроса на инструменты CD-SEM с большей пропускной способностью, разрешением и автоматизацией. Он обеспечивает превосходное управление размерами в передовых технологических узлах и широко используется на полупроводниковых заводах.

Основываясь на приложениях, рынок разделен на производство полупроводников, производство плоских панелей (FPD), MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), производство светодиодов и другие. Производственный сегмент FPD является самым быстрорастущим сегментом с CAGR 8,6% в период между 2025 и 2034 годами.

• Полупроводниковое производство является крупнейшим сегментом применения на рынке литографического метрологического оборудования, что обусловлено спросом на более компактные, быстрые и эффективные устройства. С тенденцией меньших технологических узлов, таких как 7 нм, 5 нм и более низкие значения диапазона, инструменты метрологии должны быть намного более сложными, чтобы обеспечить контроль критических размеров, точность наложения и свойства материала находятся под контролем. Литография EUV и многоплановая метрология могут похвастаться одними из самых сложных уровней, чтобы обеспечить соответствие устройств требуемым стандартам. Рост инноваций в этом сегменте связан с инновациями в метрологических системах, таких как AI 5G, и IoT в полупроводниковых технологиях.
• Литографическое метрологическое оборудование приобрело высокую тягу, поскольку отрасль переходит на большие экраны с большим разрешением и производительностью во время производства плоских панелей. Толщина слоя, микроразрешение и точность выравнивания должны быть в оптимальном диапазоне для облегчения качества процесса по мере увеличения использования OLED и микро-LED технологий. Растущая потребность в телевизорах высокой четкости, смартфонах высокого класса и других устройствах ускоряет разработку точных методов метрологии для контроля однородности дисплея и дефектов во время производства, особенно в свете будущих тенденций к большим экранам и большим пикселям.

США доминировали на рынке литографического метрологического оборудования Северной Америки в 2024 году, составляя долю в 87,4%.

Рынок США готов к росту благодаря своим возможностям в области передового производства полупроводников и инфраструктуры исследований и разработок. Кроме того, реставрации в продвинутых узлах метрологических инструментов приводятся в действие ведущими многоуровневыми полупроводниковыми фирмами и фабами, вкладывающими деньги в узлы 5 нм и ниже. Рынок также активно развивается благодаря быстрому внедрению литографии EUV и растущему акценту на 3D-упаковку. Значительное финансирование технологий ИИ, IoT и 5G продолжает стимулировать рост передовых метрологических решений.

Рынок Индии находится на стабильном подъеме, подпитываемом такими инициативами, как правительственная кампания «Делай в Индии» и растущие иностранные инвестиции в полупроводниковую промышленность. Растущий спрос Индии на электронику и акцент на производство интегральных микросхем являются основными факторами, влияющими на конкретный рынок. Развитие полупроводниковых фабрик предоставляет больше возможностей для специализированных поставщиков метрологического оборудования, хотя неадекватная инфраструктура по-прежнему является проблемой. Ожидается, что увеличение потребления электроники и автомобильных полупроводников будет способствовать дальнейшему развитию рынка.

Китайский рынок литографического метрологического оборудования стимулируется значительными инвестициями в производство полупроводников, поскольку страна пытается достичь технологической самодостаточности. Крупные заводы расширяют свои производственные возможности для удовлетворения местных и зарубежных рынков чипов, что приводит к более широкому признанию более сложных измерительных инструментов. Государственные программы и финансовые стимулы помогают местным производителям оборудования и технологическим предпринимателям. Кроме того, устойчивое положение Китая на рынке потребительской электроники и технологий 5G увеличивает перспективы роста рынка.

Индустрия литографического оборудования в Южной Корее в основном поддерживается позицией страны как ведущего производителя полупроводников памяти, поскольку крупные компании тратят средства на передовые узлы и технологию литографии EUV. Рынок получает сильный импульс от использования флэш-чипов DRAM и NAND для бытовой электроники и инфраструктуры 5G. Увеличение капитальных затрат на производство в больших объемах и контроль качества создают новые возможности для роста метрологических технологий. Позиция Южной Кореи в авангарде полупроводниковых технологий гарантирует постоянный рост потребления современного оборудования.

Японский рынок литографического метрологического оборудования поддерживается обширным опытом страны в производстве полупроводникового оборудования и точной инженерии. Инвестиции страны в новые передовые метрологические инструменты полупроводниковых фабрик направлены на повышение точности и снижение дефектов в передовых процессах упаковки и литографии. В результате богатой промышленной структуры Японии, разработанной вокруг потребительской электроники и автомобильных приложений, всегда наблюдается рост поставок полупроводниковых чипов. Активное сотрудничество с международными компаниями улучшает позиции на рынке метрологии.

Доля рынка литографического метрологического оборудования

На рыночную конкуренцию в сегменте литографических метрологических инструментов влияют прежде всего технологические достижения, характеристики продукции и уникальность. Основные производители стремятся предоставить новые измерительные решения для удовлетворения меняющихся потребностей производителей полупроводников. Тем не менее, стоимость продукции также важна, особенно в чувствительных к цене приложениях, в то время как компании часто используют высокотехнологичные добавки, такие как EUV и оптические метрологические системы. Распределительные сети и обслуживание клиентов также являются важными факторами для производителей, ищущих надежную глобальную помощь. В будущем из-за технологических тенденций конкуренция за более надежные и вертикально дифференцированные варианты будет низкой.

Литографическая метрология Рынок оборудования

Основными игроками, работающими в литографическом метрологическом оборудовании, являются:

• ASML Holding NV
• Корпорация Nikon
• Группа EV
• Прикладные материалы Inc
• ОАК корпорация
• На пути к инновациям
• Canon Inc.
• Hitachi High-Tech Corporation
• Thermo Fisher Scientific Inc.

Литография Метрология Оборудование Индустрия Новости

• В ноябре 2023 года ASML расширила свое присутствие в Китае и установила почти 1400 литографических и метрологических машин, что отражает роль ASML в полупроводниковой промышленности Китая. Компания расширила свои производственные мощности и намерена ежегодно выпускать от 500 до 600 УФ-машин.
• В марте 2023 года EUV Компания Tech объявила, что получит финансирование от Intel Capital для ускорения разработки литографического измерительного оборудования для производства полупроводников. Финансирование увеличит охват продукции инспекторами по претензиям на маски EUV и отражателями. Поскольку акцент на литографии EUV увеличивает спрос, технология EUV остается фактором производства большого объема и приводит к изменению парадигмы в технологии производства чипов.
• В марте 2023 года Picarro представила SLiM 100 Lithography Process Tool Monitoring System (Система мониторинга инструментов литографии) - химический измерительный инструмент объемом 1 ppb, который может контролировать ЛОС в режиме реального времени на полупроводниковых заводах. Обнаруживая молекулярные загрязнения в воздухе, система улучшает управление процессом, минимизируя дефекты и максимизируя производство. Это позволяет быстро решать проблемы, а также минимизировать количество производства литографических инструментов и их простоев.

Этот отчет по исследованиям рынка литографического метрологического оборудования включает в себя углубленный охват отрасли. с оценками и прогнозами в отношении выручки (миллиард долларов США / миллион) и объема (единицы) с 2021 по 2034 год, для следующих сегментов:

Рынок, по технологии

• Оптическая метрология
• Сканирующая электронная микроскопия критического измерения (CD-SEM)
• Накладная метрология
• Атомная силовая микроскопия (AFM)
• Скаттерометрия

Рынок, по продукту

• Оборудование для химического контроля
• Газоконтрольное оборудование
• Другие

Рынок в процессе

• край
• облако

Рынок, по применению

• Полупроводниковое производство
• Производство плоских панелей (FPD)
• MEMS (Микроэлектромеханические системы)
• Производство светодиодов
• Другие

Рынок, конечная индустрия

• Производители интегрированных устройств (IDM)
• Литейные заводы

Указанная выше информация предоставляется для следующих регионов и стран:

• Северная Америка
  • США.
  • Канада
• Европа
  • Великобритания
  • Германия
  • Франция
  • Италия
  • Испания
  • Россия
• Азиатско-Тихоокеанский регион
  • Китай
  • Индия
  • Япония
  • Южная Корея
  • Австралия
• Латинская Америка
  • Бразилия
  • Мексика
• МЭА
  • ОАЭ
  • Саудовская Аравия
  • Южная Африка