Photoresist と Photoresist Ancillaries 市場 サイズ

フォトレジストとフォトレジストのアニシラリー市場規模は、2016年に3.5億米ドル以上で評価され、6.5%を超えるCAGRで成長すると予想されます。

ディスプレイ技術の半導体産業や開発で観察された成長は、予測年の間にフォトレジストとフォトレジストの補助食品市場を駆動します。 ラップトップ、コンピュータ、サーバー、電話の不可欠な部分である多層半導体製造の高密度包装および配線構成で使用されます。 また、音楽プレーヤー、家庭用電化製品などの家電製品に使用され、他の産業活動に採用されています。 グローバル半導体業界規模の規模は、2016 年に 300 億米ドル以上です。 発展途上国の経済状態を改善し、人々の使い捨て収入の増加のために、電子ガジェットや電化製品の需要は上昇しています。 今後数年で業界の成長を促す半導体需要が増加します。

フォトレジストおよびフォトレジストの補助食品市場プロダクトは主に電子等級の溶媒、ポリマー樹脂、安定装置、界面活性剤、感光性化学薬品および交差連結の代理店を含む溶媒ベースの解決です。 これらの溶媒は、自然の中で発がん性である揮発性有機化合物を解放し、日光と反応して空気汚染物質を形成し、人間の健康と環境に有害です。 環境保護庁(EPA)や登録、評価、認証、化学物質の制限(REACH)などの各種環境および健康規制当局は、これらの溶剤の保管、輸送および使用に関する厳格な規則および規制を課しています。 今後数年間、世界的なフォトレジストやフォトレジストのアニシラリー市場を妨げる可能性があります。

Photoresist と Photoresist Ancillaries 市場分析

製品グレードによって、フォトレジスト市場はg-とiライン、ArFドライ、KrF、ArF没入としてセグメント化されます。 ArFの液浸の等級はマイクロおよびナノスケールの電子工学の部品を製造するのに使用され、市場の重要な共有があります。 拡張機能を備えた小型電子デバイスの開発の現在の傾向では、ArF没入グレードのシェアは、予測時間枠の上昇につながります。

また、KrFは、マイクロエレクトロニクスの製造に採用されているため、世界規模のフォトレジスト市場の大きなシェアを持ち、2016年には400万米ドルを超える市場シェアを獲得しました。 ArFのドライグレードは、高解像度のフォトパターンとフォトリソグラフィプロセスで使用され、そのシェアは適度に成長することが期待されます。 G-およびiラインの等級は中紫外線波長で作動し、1 μm以上0.3 μmからの決断を提供できます。 このグレードは、来年の安定した速度で成長する可能性があります。

フォトレジストの補助食品市場は、抗反射コーティング、エッジビーズ除去剤、フォトレジストの開発者、および特殊溶剤などの他の製品を含む4つのグレードに製品によって分類されます。プライマーまたは接着プロモーター。 反射防止コーティングは、著しいシェアを持ち、コントラスト改善や複数の反射抑制などの特性へのウイングを増加させることが期待され、プロセスコストを直接効果します。

Photoresistデベロッパーのセグメントは、環境とユーザーフレンドリーである金属イオンフリーデベロッパーの需要として2024年まで安定して成長します。 エッジビーズ除去剤セグメントは、業界のかなりのシェアを持ち、予測期間中に健康な割合で成長することが期待されています。これは、フォトリソグラフィで広く使用され、スプリングコーティングプロセスでエッジビーズの蓄積を取り除きます。

用途に応じたフォトレジスト・フォトレジスト・アンシラリー市場は、半導体・集積回路(IC)としてセグメント化し、 プリント基板(PCB)ナノ電気機械システム(NEMS)を含む他の適用、 マイクロ電光機械システム (MEMS)とセンサー 半導体およびICアプリケーションセグメントは、電子機器業界からの半導体の需要が高いため、予測時間枠のさらなる上昇を期待する重要なシェアを持っています。

また、PCBは、自動車、医療、照明、防衛などの電気機器で広く使用されているため、世界的なフォトレジストおよびフォトレジストの補助食品市場のかなりのシェアを持っています。 このセグメントは、他のカテゴリと比較して、2024年までの遅い速度で成長します。

アジア・パチフィは、この地域でエレクトロニクス分野をブームさせることにより、世界的なフォトレジストとフォトレジストのアニシラリー市場を大きくシェアしています。 欧州や米国から中国や韓国などのアジア諸国へのエレクトロニクス製造活動のアウトソーシングは、地域をエレクトロニクスハブに変えてきました。 地域シェアは、この地域の人々の購買力を高めるために、今後数年でさらに増加させることを表彰されます。

北米市場は、2016年に350万米ドル以上で評価され、その株式は、半導体産業の復活や反射防止コーティングの需要の増加による安定した速度で成長します。 反射防止コーティングの需要も2024年まで成長することが期待されているヨーロッパ市場を駆動します。

Photoresist と Photoresist Ancillaries 市場シェア

世界的なフォトレジストとフォトレジストのアニシラリー市場は、合計市場の3四半期以上を占めるトップ4の企業とますます統合されています。 これらの企業は

• 東京大華工業株式会社
• 株式会社JSR
• ドーケミカルカンパニー
• AZ電子材料 SA
• フジフイルム 電子材料Co.
• Avantorパフォーマンスマテリアル株式会社
• デュポン
• 住友化学株式会社
• 信越化学株式会社
• 株式会社LGケム

トップ企業は、研究開発活動、戦略的アライアンス、能力の拡大、および潜在的な成長分野における新たな製造施設を通じて市場シェアを増加させようとしています。 例えば、Dowケミカル会社は韓国のグローバルR&Dセンターを設立し、業界におけるダイナミクスの交換に迅速に対応します。 東京 オカ・コギヨ 当社は、国内生産設備の拡充及びJSR Corporationは、韓国における市場位置の増強に資するPERI社との戦略的パートナーシップを発表しました。 LG Chem Ltd.、Dow Chemical Companyなどの企業は、競争力のある優位性を維持するために、後方統合の重要なレベルに依存しています。

Photoresist と Photoresist Ancillaries 産業背景

半導体・ICは、グローバルフォトレジスト・フォトレジスト・アキュラリー市場を統括するアプリケーションセグメントです。 半導体の需要は、多くの電子機器や通信機器で広く使用されているため、2024年まで増加すると予想されます。 電子ガジェットのサイズを減少させる傾向を成長させることは、PCB、NEMS、およびMEMSの要求を支持することによって、業界に積極的に影響を与えます。 中国、インド、韓国など途上国における技術に精通した人口増加や、高所得層化により、業界を拡張するエレクトロニクス製品の需要が高まります。