Home > Semiconductors & Electronics > Semiconductor > Semiconductor Packaging > ALD機器市場規模、シェア&分析レポート - 2032
Atomic層堆積(ALD)装置市場は2023年に3.5億米ドルに値し、2024年と2032年の間に10%以上のCAGRを登録すると推定されています。 ALD装置は半導体製造およびさまざまな企業で精密な厚さおよび均等性の薄膜を沈殿物に使用されます。 それは基質で極めて薄い層を作成するためにガス段階の化学反応を変え、材料の特性上の精密な制御を可能にします。
ALD装置は、電子機器、エネルギー貯蔵、その他の用途向けに、先進的な半導体デバイス、コーティング、機能性材料の製造において重要な役割を果たしています。 5Gや人工知能(AI)など、スマートフォン、IoT機器、技術開発技術を駆使した半導体デバイスの需要が高まっています。 高度な性能と信頼性のために、正確で一貫した薄膜蒸着を提供するALD技術は、洗練された半導体デバイスの製造に不可欠です。 半導体の需要が高まるにつれて、現代のデバイス製造プロセスの精密な仕様を満たすために、LD機器の需要が高まっています。 例えば、2023年3月、東京エレクトロン株式会社 山梨県韮崎市にある新大阪営業所に新開発施設を新設 半導体の多様化・複雑化に向け、継続的な技術開発に注力しています。 半導体業界からの需要増加に対応するため、新施設の開発にも幅広く投資しています。
ALD装置の必要性はナノテクノロジーの高められた企業の採用に起因します。 ナノテクノロジーのアプリケーションは、原子レベルの精度で超薄型フィルムを堆積するALDの能力から恩恵を受けることができます。 エレクトロニクス、ヘルスケア、エネルギーなどのさまざまな業界で精密な材料の堆積の必要性は、ナノテクノロジーベースのイノベーションの進歩に重要な技術として確立し、ALD機器の採用に燃料を供給しています。
レポート属性 | 詳細 |
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基準年: | 2023 |
ALD機 Size in 2023: | USD 3.5 Billion |
予測期間: | 2024 – 2032 |
予測期間 2024 – 2032 CAGR: | 10% |
2024 – 2032 価値の投影: | USD 9.2 Billion |
歴史データ: | 2018 – 2023 |
ページ数: | 220 |
テーブル、チャート、図: | 363 |
対象セグメント | 装置、蒸着方法、フィルムのタイプ、適用および地域 |
成長要因: |
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落とし穴と課題: |
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ALD機器市場における材料の互換性と統合の課題 ALDプロセスは、さまざまな基質、材料、およびデバイスアーキテクチャで動作することを保証することは困難です。 現在の製造プロセスとの適切な付着、インターフェイスの質および両立性を達成するために広範囲の特徴化および最適化は要求されます。 ALD技術の幅広い採用を促進するためには、これらの問題は、特に多層構造や異質統合が必要であるセクターで解決する必要があります。
ALDなどの高度な半導体製造技術の必要性は、ウェアラブル、スマートフォン、モノのインターネット(IoT)など、小型電子機器の需要が高まっています。 電子機器、ヘルスケア、エネルギーなどの様々な分野におけるナノテクノロジーの活用が進んでおり、ALD機器が提供する正確な薄膜沈着能力が不可欠です。 エネルギー貯蔵装置、太陽電池およびLEDの照明のLDのコーティングの必要性は持続可能性およびエネルギー効率の高められた焦点による増加しています。 MEMS機器、センサー、バイオメディカルデバイスなどの従来の半導体製造以外のALDの普及用途は、市場拡大に貢献しています。 たとえば、2020年2月、Veeco Instruments Inc.は、高性能フォトニクスデバイスの開発を容易にするためにMOCVDシステムのスイートを開始しました。 MOCVDプラットフォームは、独自のTurboDiscリアクター技術を採用し、さまざまなフォトニクスアプリケーション向けに優れたフィルムの収率、均一性、デバイス性能を実現します。 このモデルは、VCSEL、ミニ/マイクロLEDデバイス、エッジ発光レーザー(EEL)の生産を上げました。
ALD技術の継続的な発展、スループットの向上、フィルムの均一性の向上、新素材の創造など、幅広い産業分野におけるALDの魅力と適用性を高めることで市場拡大を推進しています。 これらの要因は、市場の上向きの軌跡をサポートします。
アプリケーションに基づいて、市場は、コンピューティング部門、データセンター、コンシューマーエレクトロニクス、ヘルスケア&バイオメディカル、自動車、エネルギー&電力にセグメント化されています。 計算部門は、2023年に30%以上の市場シェアを占めています。
蒸着方法に基づいて、市場はプラズマ強化ALD、熱ALD、空間ALD、電力ALD、その他に分けられます。 空間 ALD セグメントは、2024 年から 2032 年まで 11% の CAGR を登録すると推定されます。
北米は2023年にグローバルALD機器市場において35%以上のシェアを保有しました。 業界は、いくつかの要因にウイング北米で拡大しています。 領域は堅牢な半導体分野を持ち、ALDなどの最先端製造技術に一貫して投資しています。 ALD機器やアプリケーションの開発は、北米の技術革新と研究の中心として燃料を供給しています。 航空宇宙、防衛、医療などの産業分野におけるLDの需要が高まっています。 全体的に、北アメリカの市場の成長は好ましい経済条件および技術の進歩にクレジットされます。
ALD機器業界で動作する主要なプレーヤーは次のとおりです。
アスム 国際NVは、LD機器業界において著名なシェアを有しています。 アスム 国際NVは、ALDシステムを含む半導体製造装置のリーディングサプライヤーです。 ALD装置は、先進半導体デバイス向けの薄膜の精密堆積を可能にし、量産・研究用途向けのソリューションを提供します。 ASM International NV の ALD 技術は、信頼性、スケーラビリティ、および半導体産業の厳しい要件を満たす能力を提供します。
ASM International NV, Lam Research Corporation, TEL(東京エレクトロンリミテッド)、Beneq Oyjareなどの主要なプレーヤーは、地理的拡張、買収、合併、コラボレーション、パートナーシップ、製品やサービスの立ち上げなどの戦略的施策を継続的に実施し、市場シェアを獲得しています。
ALD機器市場調査報告書には、業界の詳細な報道が含まれています 2018年から2032年までの収益(USD Billion)の面での見積もりと予測 以下のセグメントの場合:
マーケット、装置によって
マーケット、沈殿物方法による
マーケット、フィルムのタイプによって
マーケット、適用によって
上記情報は、以下の地域および国に提供いたします。