Laser Photomask Market Size, rapporto di condivisione e crescita, 2025-2034

Laser Photomask dimensione del mercato

Il mercato globale delle fotomaschere laser rappresenta attualmente 4,8 miliardi di dollari, con un volume di 0,516 milioni di unità nel 2024 ed è destinato a crescere ad un CAGR del 3% dal 2024 al 2034, guidato dalla crescente domanda di chipset semiconduttori, dalla rapida miniaturizzazione dei componenti elettronici e dall'espansione del mercato dell'elettronica di consumo.

La crescente necessità di chip semiconduttore più piccoli ed efficienti, soprattutto quelli prodotti a 3 nm nodi, funge da forza trainante significativa nel settore dei semiconduttori. Questa continua domanda di miniaturizzazione e maggiore efficienza richiede l'utilizzo di fotomaschi laser ad alta precisione, che sono vitali per il trasferimento accurato di progetti di circuiti complessi su wafer di silicio. Ad esempio, la produzione su larga scala del chipset 3nm di Taiwan Semiconductor Manufacturing Company sottolinea l'importanza critica dei fotomaschi avanzati per raggiungere la precisione necessaria per lo sviluppo tecnologico all'avanguardia. Questo avanzamento indica una transizione di mercato più ampia verso metodi di produzione sofisticati, spingendo l'espansione del settore richiedendo soluzioni di litografia innovative per soddisfare le crescenti complessità del design.

Analogamente, la crescente necessità di circuiti integrati più complicati (IC) con un maggior numero di transistor e un ulteriore miniaturizzazione è stata l'aumento del mercato per i fotomaschi laser. Poiché i dispositivi si restringono, i fotomasks di altissima precisione sono necessari per fabbricare circuiti di nanoscala. Il passaggio alla litografia EUV per i nodi sub 7 nm è un caso a punto; ha bisogno di fotomaschi con densità di difetto inferiore a 0,01/cm2. Questa domanda è esemplificata dall'uso di maschere EUV di Samsung per i processori 5nm Exynos. Ciò indica un chiaro segno di un mercato di fotomaschera in via di sviluppo, che, come illustrato con Intel, sta costringendo produttori e sviluppatori a ripensare e ridisegnare le loro innovazioni verso le tecnologie di photomask. In tutto, le capacità di photomask dell'industria hanno ulteriormente accelerato la crescita a causa dell'innovazione nella ridefinizione e nel miglioramento delle tecnologie esistenti.

La crescente necessità di elettronica di consumo come smartphone, tablet e altri dispositivi intelligenti ha portato ad una maggiore necessità di chip semiconduttore, che, a sua volta, aumenta la domanda di fotomasks. Prendere Apple, per esempio, con il loro chip A16 Bionic; utilizza fotomasks avanzati ed è un esempio stellare dell'elettronica di consumo che guida la necessità di una produzione più precisa. Questo picco non solo migliora la capacità produttiva all'interno dell'industria dei semiconduttori, ma aumenta notevolmente la domanda complessiva di fotomasks. In questo modo, il mercato dei semiconduttori è sostenuto, che a sua volta accelera lo sviluppo della tecnologia di photomask per mantenere il passo con i requisiti del produttore. Insieme a questo, il numero crescente di marchi che lanciano prodotti complessi sta aumentando la domanda di fotomasks sia nell'offerta che nella complessità.

Tendenze del mercato di Photomask Laser

• L'aggiunta di schermi pieghevoli, telecamere AI e le prossime versioni di tecnologie 5G e 6G hanno creato una folle richiesta di chip semiconduttore ad alte prestazioni e ad efficienza energetica, che a sua volta incoraggiano i produttori di chip a fare affidamento su fotomasks più avanzati per produrre transistor più stretti e compatti. Ad esempio, i chip Snapdragon 8 Gen 3 e X Elite di Qualcomm dispongono di nodi fotomask 3nm e 4nm EUV. Questi portatili di punta e telefoni cellulari sono ora in grado di elaborare le informazioni a una velocità più rapida. Come smartphone, tablet e altri telefoni cellulari sono combinati con altri dispositivi con braccia on-device e AR, la precisione e la domanda di fotomaschi sono cruciali. Ciò si tradurrà in riserve accessibili per i fotomasks di alta qualità, causando loro di essere i fattori principali che permettono le tecnologie mobili di nuova generazione e sostenere la crescita perpetua nel mercato.
• Le imprese internazionali, come l'U.S. CHIPS Act, insieme ai programmi di ricerca e sviluppo aziendali, stanno accelerando le innovazioni nei materiali semiconduttori, nelle architetture e nei processi produttivi. Queste spese privilegiano indirettamente gli avanzamenti di fotomaschera in quanto nuovi progetti di chip (circuiti integrati basati sul nitride digallium) richiedono fotomasks specifici. Ad esempio, PowerVia, una tecnologia di alimentazione backside recentemente sviluppata da Intel, si basa su fotomasks di precisione. Promuovere l'innovazione attraverso la catena del valore dei semiconduttori, la ricerca e lo sviluppo (R&D) gli investimenti assicurano che i fotomaschi rimangano essenziali per le tecnologie emergenti come l'informatica quantistica. Questo approccio aiuta a mantenere la loro rilevanza nel mercato nel tempo.
• L'adozione di integrazioni 3D e architetture basate su chiplet supera i problemi di prestazioni e scalabilità attraverso lo stacking di diversi stampi in pacchetti con zip. Questa strategia richiede fotomaschi speciali per formare le strutture interconnesse attraverso le vie di silicio (TSV) e altre interconnessioni ad alta densità. I processori Ryzen di AMD che migliorano la potenza di calcolo utilizzando architetture di chiplet esemplificano l'affidamento crescente di AMD su fotomasks per un allineamento preciso dei componenti. Il mercato si è spostato verso progetti modulari e scalabili, che si concentrano sulle applicazioni di confezionamento di fotomaschera, ampliando così il loro utilizzo durante i processi non-litografici. Questo sviluppo garantisce che i fotomaschi diventeranno sempre più essenziali per sistemi multifunzionali sofisticati e compatti e amplieranno la loro portata di mercato.

Analisi del mercato di Fotomaschera Laser

Sulla base del tipo di fotomaschera, il mercato è segmentato in reticella fotomasks, master fotomasks, e fotomasks replicati. Il segmento reticolo di fotomasks rappresenta la quota di mercato più alta del 43% nel 2024, e il segmento di fotomasks replicato è il segmento di crescita più veloce con un CAGR del 3,7%.

Attualmente, il segmento dei fotomaschi reticoli rappresenta 2 miliardi di USD nel 2024 e si prevede di crescere con un CAGR del 3,2%. I fotomaschi Reticle sono parte integrante della litografia semiconduttore avanzata del nodo sub-3nm e che rende i modelli ad alta risoluzione. Uno dei recenti sviluppi è l'incorporazione di sistemi di ispezione dell'intelligenza artificiale (AI) per identificare i difetti sull'ordine dei nanometri che aumenta la precisione di riparazione della maschera per la litografia di EUV, come nel parco NX-Mask di Park Systems. Questa enfasi sulla mancanza di reticolo si armonizza con la mossa del settore verso la litografia EUV e High-NA, garantendo maschere radiografiche saranno in grado di resistere ai requisiti di precisione delle architetture chipset avanzate. La crescita del segmento sostiene lo sviluppo di dispositivi semiconduttori più densi e veloci, rafforzando la posizione per carichi di lavoro di elaborazione ad alte prestazioni e intelligenza artificiale (AI).

Le fotomasks replicate rappresentano attualmente 1,7 miliardi di dollari nel 2024 ed è il segmento in crescita più veloce del mercato, che si compone ad un tasso di crescita annuo del 3,7%. I fotomasks replicati sono sempre più in fase di adozione per la produzione di massa economica di circuiti integrati standardizzati, soprattutto all'interno di nodi legacy e tecnologie consolidate. Le aziende come TSMC utilizzano metodi di replica per migliorare le capacità di produzione per chip automobilistici e IoT, ottenendo un equilibrio tra accuratezza e convenienza. La crescente popolarità dell'imballaggio 3D e l'integrazione eterogenea è anche la domanda di guida, come le maschere replicate facilitano la produzione di interconnessioni in sistemi multi-chip. Questa tendenza promuove la crescita del mercato servendo i produttori semiconduttori di fascia media che enfatizzano la scalabilità e l'efficienza dei costi, mantenendo l'affidabilità per le applicazioni in edge computing e nell'automazione industriale.

Sulla base di materiale substrato, il mercato di fotomaschera laser è segmentato in fotomasks di quarzo, fotomasks di soda-lime e fotomasks di film. Il segmento di fotomasks al quarzo rappresenta la quota di mercato più alta del 47% nel 2024, e il segmento di fotomasks film è il segmento di crescita più veloce con un CAGR del 3,6%.

Il segmento di fotomasks al quarzo rappresenta 2,2 miliardi di dollari nel 2024 e dovrebbe crescere con un CAGR del 3,2%. Il quarzo è ancora il substrato di scelta per i fotomasks di fascia alta a causa della sua stabilità termica e trasmissione a lunghezze d'onda DUV/EUV. Alcuni dei progressi sono configurazioni ibride di quarzo-blank per ridurre al minimo i difetti di assorbimento nelle impostazioni EUV, che Samsung ha già implementato per i suoi nodi transistor GAA (Gate-All-Around). La compatibilità con nuovi materiali di litografia garantisce il suo regno sulla produzione di chip avanzata. I fotomaschi al quarzo continueranno ad essere il fattore che consente l'innovazione futura, soprattutto nei chip AI e nei dispositivi di memoria, dove precisione e durezza sono un dato.

Le fotomaschere cinematografiche rappresentano attualmente 1,5 miliardi di dollari nel 2024 ed è il segmento in crescita più veloce del mercato, che si attesta ad un tasso di crescita annuo del 3,6%. I fotomaschi cinematografici stanno ora navigando per usi flessibili e ampi, ad esempio, display OLED e sensori MEMS. Recenti progressi nel segmento includono film polimerici ultrasottili che hanno una migliore adesione, consentendo modelli più sottili per gli ultimi schermi di smartphone pieghevole di LG Display. IC ad alta densità, le maschere cinematografiche sono importanti per i mercati di nicchia come l'elettronica indossabile e i dispositivi biomedici. La loro capacità di collegarsi a substrati non tradizionali li rende un driver di crescita in aree che necessitano di disegni leggeri e conformabili.

Sulla base della tecnologia, il mercato di fotomaschera laser è segmentato in EUV (Extreme Ultraviolet) fotomasks, DUV (Deep Ultraviolet) fotomasks, fotomasks binari e fotomasks a turni di fase. Il segmento di fotomasks DUV rappresenta la quota di mercato più alta del 32,2% nel 2024, e il segmento di fotomasks EUV è il segmento di crescita più veloce con un CAGR del 4,5%.

Il segmento dei fotomasks ultravioletti è pari a 1,5 miliardi di dollari nel 2024 e dovrebbe crescere con un CAGR del 3,2 %. I fotomaschi DUV sono ancora critici per i processi di produzione e le applicazioni di semiconduttori più vecchi come dispositivi analogici e di potenza. Intel e altre aziende stanno raffinando tecniche DUV per le MCU auto più convenienti e altre applicazioni automobilistiche. L'evoluzione della mascheratura a turni di fase e della correzione di prossimità ottica (OPC) ha una rilevanza costante della DUV e il suo ruolo nella produzione di classe media. La forza duratura di questo segmento sottolinea le esigenze della diversità della litografia all'interno del settore, soprattutto nelle aree in cui l'EUV è lenta da adottare.

L'estremo segmento di fotomasks ultravioletti rappresenta attualmente 1,4 miliardi di dollari nel 2024 ed è il segmento in crescita più veloce del mercato, che si compone ad un tasso di crescita annuale del 4,5%. La produzione di chip Sub-5nm si basa su fotomasks EUV per una densità di pattern eccezionale. I sistemi High-NA EUV di ASML, ora integrati da TSMC per nodi 2 nm, richiedono maschere prive di difetti contenenti un'espansione termica ultra-bassa. La ricerca della precisione a livello di angstrom sta ridefinindo le tecnologie di ispezione e riparazione delle maschere; pellicole progettate per ridurre la contaminazione delle particelle sono state progettate da Hoya. EUV rimane dominante nelle principali logiche di bordo e chip di memoria e continuerà ad essere un fattore di crescita cardine a causa dell'ondata di acceleratore AI e delle richieste di memoria ad alta larghezza di banda.

Sulla base dell'applicazione, il mercato di fotomaschera laser è segmentato in fabbricazione semiconduttore, produzione di display a pannello piatto, MEMS (Micro-Electromechanical Systems), imballaggio IC, optoelettronica e altri. Il segmento di fabbricazione dei semiconduttori rappresenta la quota di mercato più elevata del 22,2% nel 2024, e il segmento MEMS è il segmento di crescita più veloce con un CAGR del 5,4%.

Il segmento di fabbricazione dei semiconduttori rappresenta 350,4 milioni di USD nel 2024 e dovrebbe crescere con un CAGR del 4,1%. In AI, 5G e calcolo quantistico, l'innovazione ha portato ad un aumento della domanda di semiconduttori. Questo ha un impatto diretto sulla domanda di fotomaschera. Le fotomascherine di scrittura multi-a vapore, per esempio, stanno aiutando i processori quantici di IBM a raggiungere una maggiore densità di qubit. Allo stesso modo, l'architettura 3D-Blox di TSMC richiede fotomasks ad alta precisione di sovrapposizione. Nella regione, la domanda di maschere è associata con l'azionamento incessante del business dei semiconduttori per la scalabilità delle prestazioni, rendendo i fotomasks centrali agli sforzi di R&D avanzati e di produzione.

I sistemi microelettromeccanici rappresentano attualmente 324,1 milioni di USD nel 2024 ed è il segmento in crescita più veloce del mercato, che si attesta ad un tasso di crescita annuo del 5,4%. STMicroelectronics personalizza fotomasks per la produzione di accelerometri ultrasensibili per i dispositivi di monitoraggio della salute. Gli accelerometri ultrasensibili consentono alle applicazioni MEMS di estendersi in sensori ambientali e dispositivi biomedici. La crescita delle infrastrutture intelligenti e dell'Internet of Things crea un mercato di nicchia e ad alta crescita per soluzioni basate su MEMS. I fotomaschi MEMS migliorati consentiranno di creare ancora più innovazione nei materiali resistenti agli urti e nelle tecniche di modellazione 3D.

Sulla base dell'uso finale, il mercato di fotomaschera laser è segmentato in elettronica di consumo, automobilistico, dispositivi sanitari e medici, aerospaziale & difesa, telecomunicazioni, e altri. Il segmento dell'elettronica di consumo rappresenta la quota di mercato più elevata del 23,5% nel 2024, e il segmento automobilistico è il segmento di crescita più veloce con un CAGR del 5%.

L'elettronica di consumo rappresenta attualmente 1,1 miliardi di USD nel 2024 ed è il segmento in crescita più veloce del mercato, che si attesta ad un tasso di crescita annuo del 3,2%. Elettronica di consumo come smartphone, cuffie AR/VR, e la richiesta di fotomaschera di unità indossabile tramite chip miniaturizzati. I processori Snapdragon di Qualcomm esemplificano la necessità di modellare ad alta risoluzione per integrare i modem AI e 5G, poiché le maschere avanzate sono anche in grado di integrare la domanda. La crescita del segmento è guidata da dispositivo ciclico rinfresca e l'espansione del bordo AI, che richiedono fotomaschi con potenza ed efficienza tradeoff complementare alla capacità di calcolare.

Attualmente, il segmento automobilistico rappresenta 992 milioni di USD nel 2024 e si prevede di crescere con un CAGR del 5%. ADAS e il boom del veicolo elettrico all'interno della domanda di azionamento del settore automobilistico per fotomasks utilizzati in semiconduttori di potenza ad alta affidabilità e array di sensori. Gli inverter basati su SiC di Infineon fabbricati con maschere DUV durature dimostrano la priorità del settore di durata e resistenza termica. Con più funzioni automatizzate dai produttori di auto, i fotomasks consentiranno il prossimo aumento delle innovazioni nei veicoli, comprese le interfacce di lidar e AI posizionate all'interno della cabina.

Sulla base della regione industria il mercato è segmentato in Nord America, Europa, Asia Pacifico, America Latina e MEA. Nel 2024, il segmento Asia-Pacifico ha rappresentato la più grande quota di mercato con oltre il 32,6% della quota di mercato totale, ed è anche la regione in crescita più rapida, in crescita ad un CAGR del 3,7%.

Il mercato delle fotomaschere laser si sta espandendo rapidamente negli Stati Uniti, raggiungendo un CAGR del 3,6% e raggiungendo una valutazione di 1 miliardo di dollari nel 2024. Questo cambiamento è dovuto alla rapida adozione di nuovi nodi semiconduttori a causa della rapida crescita dell'intelligenza artificiale ed è ulteriormente sostenuto dalle politiche governative per stimolare la produzione interna. La litografia EUV, che dipende da fotomasks estremamente accurati, aiuta a consentire questo cambiamento. Un buon esempio è la crescente capacità produttiva locale di una importante fonderia semiconduttore in Arizona. Questo sviluppo aumenterà la domanda di fotomaschi avanzati utilizzati per produrre chip più piccoli, più leggeri e più potenti.

In Germania, il mercato delle fotomaschere laser è in costante espansione, raggiungendo un CAGR del 4% e raggiungendo una valutazione di 230,3 milioni di dollari. Il crescente mercato dei componenti semiconduttori dell'elettronica automobilistica, soprattutto per quanto riguarda il passaggio ai veicoli elettrici, è completato da una forte ricerca e sviluppo sponsorizzati dal governo sta trainando il mercato. Un cambiamento significativo è evidenziato dall'aumento della produzione di chip da un importante fornitore di industria automobilistica, che mostra l'adozione del settore automobilistico di nuove tecnologie semiconduttori. Questa tendenza genererà la domanda di fotomaschi laser automobilistici specializzati, che sono essenziali durante la transizione del settore a soluzioni eco-compatibili e per l'espansione del mercato globale.

In Cina, il mercato delle fotomaschere laser si sta espandendo ad un CAGR del 4,9% e raggiungendo una valutazione di 670,4 milioni di dollari nel 2024. La rapida crescita della produzione di semiconduttori domestici in Cina, sostenuta da sovvenzioni governative, fa parte dell’impennata del paese verso una maggiore autostima tecnologica. Un esempio di questo aumento è visto nella nuova costruzione di impianti di fabbricazione da una società locale semiconduttore domestico, che mostra l'intento del paese di ridurre ulteriormente la dipendenza dall'importazione. Questo aumento della capacità interna sta stimolando il mercato, un componente significativo nella produzione di semiconduttori, e, nel tempo, aumenterà notevolmente la crescita del mercato.

Il mercato delle fotomaschere laser in Giappone ha avuto un'espansione significativa, raggiungendo un tasso di crescita annuale composto dell'1,5% e raggiungendo una valutazione di 193,6 milioni di dollari nel 2024. Il Giappone ha l'obiettivo di sostenere la ricerca e lo sviluppo di chip legacy, soprattutto per applicazioni automobilistiche, grazie a forti collaborazioni industriali. Un primo esempio è un produttore automobilistico iconico che collabora con i produttori di chip classici per soddisfare le crescenti esigenze dell'elettronica del veicolo. Questa enfasi sulle tecnologie collaudate dei semiconduttori favorisce la produzione di fotomaschi laser retrogradi critici per il comando della crescita del mercato in mezzo alla concorrenza nel settore automobilistico.

In Corea del Sud, il mercato delle fotomaschere laser si sta espandendo, raggiungendo un CAGR del 5,1% e raggiungendo un valore di 164,5 milioni di dollari nel 2024. L'avanzamento delle aziende sudcoreane nell'area delle tecnologie di memoria laser ad alta precisione è supportato da leader del settore sudcoreano che sono fortemente innovare e investire nel settore. Un esempio di questo sarebbe la continua crescita della domanda di sistemi di memoria di nuova generazione all'interno dell'industria locale. Questa crescita sta aumentando la domanda di tecnologie avanzate di photomask, che a sua volta rafforza la posizione di spicco della Corea del Sud nella crescita globale di fotomasks.

Laser Photomask Market

Applied Materials Inc., KLA Corporation, Photronics Inc. sono i primi 3 giocatori dell'industria della fotomaschera laser. I primi 3 giocatori rappresentano il 21% della quota di mercato globale. KLA-Tencor Corporation sta affinando il suo focus sull'identificazione di difetti complessi insieme a sistemi di ispezione di fotomask ad alta precisione, impiegando tecnologie di imaging avanzate, intelligenza artificiale e algoritmi di apprendimento profondo per aumentare la resa e l'affidabilità nella produzione di semiconduttori.

Applied Materials Inc. sta ampliando il campo di attività aggiungendo apparecchiature di litografia di nuova generazione con processi di produzione di fotomaschera all'avanguardia che inducono l'ottimizzazione del processo e supportano il design di chip complesso. Photronics Inc. sta effettuando investimenti significativi nell'aggiornamento della riparazione e dell'elaborazione di fotomask per aumentare la precisione, la velocità e la precisione di trasferimento del modello nella fabbricazione di semiconduttori ad alta precisione.

Laser Photomask Market Aziende

L'industria della fotomaschera laser è altamente competitiva con i frontrunners come Lista di giocatori di spicco che operano sul mercato comprende:

• Materiali applicati Inc.

• KLA Società

• Photronics Inc.

KLA-Tencor Corporation è uno dei principali attori del mercato della fotomaschera laser. KLA-Tencor Corporation si sta attualmente concentrando sull'espansione delle sue soluzioni di controllo del processo e di gestione dei rendimenti per migliorare la fabbricazione laser di fotomask. La recente partnership con i principali fabs semiconduttori si è rivelata utile nell'implementazione di sistemi di ispezione basati su AI, che tagliano il tasso di difetto con un ordine di grandezza, migliorando così la risoluzione del modello e l'efficienza complessiva. Queste integrazioni stanno fissando nuovi standard e accelerando la crescita nel settore.

Photronics Inc. sta rafforzando la sua posizione di leader nel settore della fotomaschera laser facendo investimenti strategici nella ricerca e nello sviluppo, oltre ad espandere la sua capacità produttiva. La recente introduzione della tecnologia avanzata di fabbricazione di fotomaschera, che offre una maggiore produttività e una risoluzione eccezionale, ha ulteriormente solidificato il suo bordo competitivo. Questi sforzi sono cruciali nell'affrontare la crescente domanda di soluzioni di mascheramento precise e nel guidare la crescita complessiva del mercato.

Laser Photomask Industry News

• Nel marzo 2025, i ricercatori cinesi dell'Accademia cinese delle scienze hanno creato un laser a ultravioletto profondo a stato solido (DUV) che produce una luce di 193-nm, una tecnologia fotografica semiconduttore emergente, ma attualmente ostacolata da bassa potenza.
• Toppan Photomask e IBM nel febbraio 2024 hanno raggiunto un partenariato R&D collaborativo quinquennale volto a creare fotomasks EUV per la tecnologia dei semiconduttori 2nm con l'accento sulla selezione avanzata dei materiali e sul controllo dei processi.
• Nell'ottobre del 2024 Toppan Photomask dichiarò di rinominarsi a Tekscend Photomask Corp. a partire dal 1o novembre 2024, nell'intento di migliorare il riconoscimento globale e la competitività nel settore dei semiconduttori.

Rapporto di ricerca sul mercato di fotomaschera laser comprende una copertura approfondita del settore con stime e previsioni in termini di entrate (USD Million) & volume (Million Units) dal 2021 al 2034 per i seguenti segmenti:

Mercato, Di tipo Photomask

• Retics photomasks
• Fotografie master
• Immagini replicate

Mercato, Per materiale substrato

• Fotografie al quarzo
• Soda-lime fotomasks
• Fotografie di film

Mercato, per tecnologia

• EUV (extreme ultraviolet) fotomasks
• DUV (sep ultravioletto) fotomasks
• Fotografie binarie
• Fotomaschio a turni di fase

Mercato, per applicazione

• Fabbricazione dei semiconduttori
• Produzione di display a pannello piatto
• MEMS (sistemi microelettromeccanici)
• Imballaggio IC
• Optoelettronica
• Altri

Mercato, per l'industria dell'uso finale

• Elettronica di consumo
• Automotive
• Assistenza sanitaria e dispositivi medici
• Aerospaziale e difesa
• Telecomunicazioni
• Altri

Le suddette informazioni sono fornite per le seguenti regioni e paesi:

• Nord America
  • USA.
  • Canada
• Europa
  • Regno Unito
  • Germania
  • Francia
  • Italia
  • Spagna
  • Russia
• Asia Pacifico
  • Cina
  • India
  • Giappone
  • Corea del Sud
  • ANZ
• America latina
  • Brasile
  • Messico
• ME
  • UA
  • Arabia Saudita
  • Sudafrica